一是鍍層與基體附著力不佳，二是鍍鎳層脆性大，延展性小。若熱處理不當(dāng)產(chǎn)生難以***的污垢或鍍前處理不徹底，污垢夾雜在基體與鍍層之間，使鍍層與基體結(jié)合力很差，后續(xù)裝配加工時(shí)，易起皮脫落。當(dāng)光亮劑配比不當(dāng)或質(zhì)量差、pH值太高、陰極電流密度太大及鍍液溫度過(guò)低時(shí)，都會(huì)造成氫離子在陰極還原后，便以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而產(chǎn)生”氫脆”現(xiàn)象。另外，當(dāng)鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)及分解產(chǎn)物過(guò)多時(shí)，也會(huì)使鍍層產(chǎn)生“氫脆”現(xiàn)象。電鍍鎳耐腐蝕性差由于鍍鎳層的孔隙率高，只有當(dāng)鍍層厚度超過(guò)25微米時(shí)才基本上無(wú)孔。因此薄的鍍鎳層不能單獨(dú)用來(lái)作防護(hù)性鍍層，**好采用雙層鎳與多層鎳體系。電鍍鎳掛綠腐蝕電鍍后采用VCF一385防銹切削液對(duì)鍍層進(jìn)行封閉處理，當(dāng)防銹切削液干燥后，在產(chǎn)品上便形成掛綠的不良現(xiàn)象。電鍍鎳內(nèi)孔露銅由于光亮鎳鍍液的深鍍能力不如**鍍暗銅的好，電鍍后亮鎳鍍層在產(chǎn)品內(nèi)孔部位不能完全把銅鍍層覆蓋。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，用戶(hù)的信賴(lài)之選，歡迎您的來(lái)電哦！甘肅工廠(chǎng)電鍍技術(shù)員招聘

用鍍覆金屬制成陽(yáng)極，兩極分別與直流電源的正極和負(fù)極聯(lián)接。電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導(dǎo)電的鹽類(lèi)、緩沖劑、pH調(diào)節(jié)劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的作用下移動(dòng)到陰極上形成鍍層。陽(yáng)極的金屬形成金屬離子進(jìn)入電鍍液，以保持被鍍覆的金屬離子的濃度。在有些情況下，如鍍鉻，是采用鉛、鉛銻合金制成的不溶性陽(yáng)極，它只起傳遞電子、導(dǎo)通電流的作用。電解液中的鉻離子濃度，需依靠定期地向鍍液中加入鉻化合物來(lái)維持。電鍍時(shí)，陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強(qiáng)度、析出的雜質(zhì)、電源波形等都會(huì)影響鍍層的質(zhì)量，需要適時(shí)進(jìn)行控制。首先電鍍液有六個(gè)要素：主鹽、附加鹽、絡(luò)合劑、緩沖劑、陽(yáng)極活化劑和添加劑。電鍍?cè)戆膫€(gè)方面：電鍍液、電鍍反應(yīng)、電極與反應(yīng)原理、金屬的電沉積過(guò)程。電鍍反應(yīng)中的電化學(xué)反應(yīng)：下圖是電鍍裝置示意圖，被鍍的零件為陰極，與直流電源的負(fù)極相連，金屬陽(yáng)極與直流電源的正極聯(lián)結(jié)，陽(yáng)極與陰均浸入鍍液中。當(dāng)在陰陽(yáng)兩極間施加一定電位時(shí)，則在陰極發(fā)生如下反應(yīng)：從鍍液內(nèi)部擴(kuò)散到電極和鍍液界面的金屬離子Mn+從陰極上獲得n個(gè)電子，還原成金屬M(fèi)。另一方面。山西表面電鍍規(guī)格電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，讓您滿(mǎn)意，歡迎您的來(lái)電！

也可以用現(xiàn)有的電源來(lái)定每槽可鍍的產(chǎn)品多少。當(dāng)然，正式的電鍍加工都會(huì)采用比較可靠的硅整流裝置，并且主要的指標(biāo)是電流值的大小和可調(diào)范圍，電壓則由0～18V隨電流變化而變動(dòng)。根據(jù)功率大小而可選用單相或三相輸入，要能防潮和散熱。工業(yè)用電鍍電源一般從l00A到幾千安不等，通常也是根據(jù)生產(chǎn)能力需要而預(yù)先設(shè)計(jì)確定的，**好是單槽單用，不要一部電源向多個(gè)鍍槽供電。如果只在實(shí)驗(yàn)室做試驗(yàn)，則采用5～1OA的小型實(shí)驗(yàn)整流電源就行了。1993年我國(guó)機(jī)械工業(yè)部****編制了電鍍用整流設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)(JB/T1504-1993)，對(duì)我國(guó)設(shè)計(jì)和生產(chǎn)的電鍍整流器的型號(hào)、規(guī)格、技術(shù)參數(shù)等都作出了相關(guān)規(guī)定。隨著電力科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，在整流電源的設(shè)計(jì)和制作上已經(jīng)有很大改進(jìn)，很多電鍍電源已經(jīng)向多功能、大功率、小體積等方向發(fā)展。自動(dòng)換向、可調(diào)脈沖、平滑調(diào)節(jié)等都已經(jīng)是常見(jiàn)的功能。常用的風(fēng)冷式可控硅整流器的技術(shù)規(guī)格見(jiàn)表1。電鍍?cè)O(shè)備電鍍槽電鍍用的鍍槽包括電鍍生產(chǎn)中各工序的**槽體。不光只是電鍍槽，還包括前處理用的除油槽、酸洗槽和清洗槽、活化槽，后處理的鈍化槽、熱水槽等。由于電鍍用槽仍然屬于非標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備，其規(guī)格和大小有很大變通空間的設(shè)備。小到燒杯，大到水池都可以用來(lái)做鍍槽。

電鍍工藝是利用電解的原理將導(dǎo)電體鋪上一層金屬的方法。電鍍是指在含有預(yù)鍍金屬的鹽類(lèi)溶液中，以被鍍基體金屬為陰極，通過(guò)電解作用，使鍍液中預(yù)鍍金屬的陽(yáng)離子在基體金屬表面沉積出來(lái)，形成鍍層的一種表面加工方法。鍍層性能不同于基體金屬，具有新的特征。根據(jù)鍍層的功能分為防護(hù)性鍍層，裝飾性鍍層及其它功能性鍍層。電鍍時(shí)，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽(yáng)極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽(yáng)離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性（鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬）、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、光滑性、耐熱性和表面美觀(guān)。中文名電鍍工藝屬性表面加工方法類(lèi)屬防護(hù)性鍍層原理電化學(xué)目錄1基本原理2電鍍分類(lèi)3工藝過(guò)程4工藝要求5影響因素6鍍件清洗劑7超聲波清洗8電鍍工藝的評(píng)價(jià)9電鍍工藝參數(shù)的管理電鍍工藝基本原理編輯電鍍是一種電化學(xué)過(guò)程，也是一種氧化還原過(guò)程.電鍍的基本過(guò)程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽(yáng)極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。例如鍍鎳時(shí)，陰極為待鍍零件，陽(yáng)極為純鎳板，在陰陽(yáng)極分別發(fā)生如下反應(yīng)：陰極(鍍件)：Ni2++2e→Ni(主反應(yīng))2H++2e→H2↑(副反應(yīng))陽(yáng)極(鎳板)：Ni-2e→Ni2+。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，讓您滿(mǎn)意，期待您的光臨！

當(dāng)年則因其成熟度不夠也使得用戶(hù)們吃足了苦頭。直到1988年以后**銅才逐漸正式取代了先前的焦磷酸銅，而成為***的基本配方。電鍍銅**銅十年后(1995)的電路板開(kāi)始采孔徑，在板厚不變或板厚增加下，常使得待鍍之通孔出現(xiàn)4:l至10:l高縱橫比的困難境界。為了增加深孔鍍銅的分布力(ThrowingPower)起見(jiàn)，首先即調(diào)高槽液基本配方的酸銅比(拉高至10:l以上)，并也另在添加劑配方上著手變化。而且還將固有垂直掛鍍的設(shè)備中，更換其傳統(tǒng)直流(DC)供電，轉(zhuǎn)型為變化電流(廣義的AC)式反脈沖電流(ReversePulse)的革新方式。要其反電流密度很大但間卻很短的情況下，冀能將兩端孔口附近較厚的鍍銅層予以減薄，但又不致影響深孔中心銅層應(yīng)有的厚度，于是各種脈沖供電方式也進(jìn)入了鍍銅的領(lǐng)域。電鍍銅水平鍍銅隨后為了方便薄板的操作與深孔穿透以及自動(dòng)化能力起見(jiàn)，板面一次銅(全板鍍銅)的操作，又曾改變?yōu)樗阶宰叻绞降碾婂冦~。在其陰陽(yáng)極距離大幅拉近而降低電阻下，可用之電流密度遂得以提高2-4倍，而使量產(chǎn)能力為之大增。此種新式密閉水平鍍銅之陽(yáng)極起先還沿用可溶的銅球,但為了減少量產(chǎn)中頻繁拆機(jī)，一再補(bǔ)充銅球的麻煩起見(jiàn)。后來(lái)又改采非溶解性的鈦網(wǎng)陽(yáng)極。而且另在反脈沖電源的協(xié)助下。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，歡迎客戶(hù)來(lái)電！山西加工廠(chǎng)電鍍鍍金

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**近許多對(duì)PCB鍍銅的研究，發(fā)現(xiàn)氯離子還可協(xié)助有機(jī)助劑(尤其是載運(yùn)劑)發(fā)揮其各種功能。且氯離子濃度對(duì)于鍍銅層的展性(Ductility)與抗拉強(qiáng)度(TensileStrength)也有明顯的影響力。電鍍銅槽液的管理槽液中的主成分每周可執(zhí)行2-3次之化學(xué)分析，并采取必要的添補(bǔ)作業(yè)以維持Cu++、SO4-、與CL-應(yīng)有的管制范圍。至于有機(jī)添加劑的分析，早先一向以經(jīng)驗(yàn)導(dǎo)向的HullCell試鍍片，作為管理與追查的工具。此種不夠科學(xué)的做法，80年代時(shí)即已逐漸被CVS法(CyclicVoltametricStripping循環(huán)電壓剝鍍分析法)所取代?，F(xiàn)役之CVS自動(dòng)分析儀器中，不但硬件十分精密，且更具備了由多項(xiàng)試驗(yàn)項(xiàng)模擬的結(jié)果而變得更為科學(xué)，此等預(yù)先設(shè)置的精確軟件程序，對(duì)于上述三種有機(jī)助劑與氯離子，均可進(jìn)行精確的分析與紀(jì)錄，使得酸性鍍銅的管理也將更上軌道。電化學(xué)的基礎(chǔ)理論頗多，但用之于實(shí)際鍍銅現(xiàn)場(chǎng)時(shí)，則似乎又關(guān)系不夠而有使不上力的感覺(jué)。一些常見(jiàn)的電化學(xué)書(shū)籍，多半只涉及實(shí)驗(yàn)室的理論與說(shuō)明，極少對(duì)實(shí)際電鍍所發(fā)生的現(xiàn)象加以闡述。以下即為筆者根據(jù)多年閱讀與實(shí)務(wù)所得之少許心得，*就某些電鍍行為斗膽加以詮釋?zhuān)恢苤幧信胃呙髦刚?。電鍍銅可逆反應(yīng)。甘肅工廠(chǎng)電鍍技術(shù)員招聘