由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。超高分辨率微觀微納3D打印技術(shù)讓電子產(chǎn)品越來越小。崇明區(qū)芯片上微納3D打印設(shè)備

生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域：微納3D打印技術(shù)在此領(lǐng)域的應(yīng)用尤為突出，可以用于制造生物材料、**器械、藥物載體、細(xì)胞和組織培養(yǎng)等。這種技術(shù)的使用有助于提高**診斷水平，為個(gè)性化**和精細(xì)**提供了新的可能性。航空航天領(lǐng)域：微納3D打印技術(shù)能夠制造航空航天領(lǐng)域的精密零件和復(fù)雜結(jié)構(gòu)，如渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、燃料噴射器等。這些復(fù)雜而精細(xì)的部件有助于提高航空器的性能和穩(wěn)定性，對(duì)推動(dòng)航空航天技術(shù)的發(fā)展具有重要意義。電子科技領(lǐng)域：該技術(shù)也廣泛應(yīng)用于電子科技領(lǐng)域，可以制造電子元件、電路板、太陽能電池等。這種技術(shù)的使用有助于提高電子產(chǎn)品的性能和降低成本，推動(dòng)電子科技的快速發(fā)展。光學(xué)領(lǐng)域：在光學(xué)領(lǐng)域，微納3D打印技術(shù)可用于制造光學(xué)元件、光學(xué)器件和光電子器件等，有助于提高光學(xué)設(shè)備的性能和降低成本。建筑領(lǐng)域：該技術(shù)也被用于建筑領(lǐng)域，制造建筑模型、建筑構(gòu)件等，有助于提高建筑的設(shè)計(jì)和建造效率。娛樂領(lǐng)域：此外，微納3D打印技術(shù)還在娛樂領(lǐng)域找到了應(yīng)用，如制造玩具、游戲道具等，為娛樂行業(yè)提供了新的創(chuàng)意和產(chǎn)品。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓寬，微納3D打印技術(shù)的應(yīng)用前景將更加廣闊。同時(shí)，我們也期待看到更多創(chuàng)新性的應(yīng)用案例。閔行區(qū)科研微納3D打印材料更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印設(shè)備的信息，請(qǐng)致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm?面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。

光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。隨著3D打印技術(shù)的不斷進(jìn)步，微納3D打印的出現(xiàn)，完美的解決了這個(gè)問題。

微納3D打印是一種快速成形技術(shù)，它運(yùn)用粉末狀金屬、塑料或其他可粘合材料，通過一層又一層的打印方式，來構(gòu)造物體。其技術(shù)原理主要包括將數(shù)據(jù)和原料放入微納3D打印機(jī)中，機(jī)器會(huì)按照程序?qū)a(chǎn)品一層層制造出來。在操作過程中，有些微納3D打印機(jī)會(huì)使用“噴墨”的方式，將一層極薄的液態(tài)塑料物質(zhì)噴涂在鑄模托盤上，然后通過紫外線處理并逐層堆疊，制造出三維物體。另一種方式則是采用“熔積成型”技術(shù)，通過熔化塑料并沉積塑料纖維形成薄層，同時(shí)使用一種粉末微粒形成另一層極薄的粉末層，由液態(tài)粘合劑進(jìn)行固化，形成所需的三維結(jié)構(gòu)。微納3D打印具有成本低、方便快捷、效率高、模塊化定制和分辨率高等優(yōu)勢(shì)，在復(fù)雜三維微結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)、嵌入異質(zhì)結(jié)構(gòu)、大面積宏/微結(jié)構(gòu)跨尺度制造方面具有明顯優(yōu)勢(shì)。此外，它還在生物醫(yī)學(xué)、航空航天、電子科技等多個(gè)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用，例如制造生物材料、**器械、飛機(jī)零部件以及電子元件等。隨著科技的進(jìn)步和市場(chǎng)的推動(dòng)，微納3D打印技術(shù)正逐步成為制造業(yè)的重要發(fā)展方向，有望為未來的產(chǎn)品制造帶來**性的變革。如需更多信息，建議查閱微納3D打印相關(guān)的專業(yè)書籍或研究文獻(xiàn)。在科研領(lǐng)域,Nanoscribe 的系列3D打印設(shè)備幫助推動(dòng)著微納光學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展。青浦區(qū)國產(chǎn)微納3D打印保養(yǎng)

Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場(chǎng)。崇明區(qū)芯片上微納3D打印設(shè)備

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè)，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí)，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。崇明區(qū)芯片上微納3D打印設(shè)備